《重生85:被冤枉後出國留學》第85章 造光刻機很難 把握人心更難(2)

作者:我愛錦鯉魚·1個月前

兩輛車以每小時三萬公里速度並駕齊驅,他們之間的距離差必須小於0.5毫米。

這就是光刻機工件臺要求的精度,這個需要技術積累。

第二個光學系統,有點麻煩。

靠國內團隊研究,短時間搞出高質量的DUV鏡頭幾乎不可能,更別說更精密的EUV。

但有個機會在等著他,那就是德意志民主共和國(東德)也有一個蔡司。

他的原計劃是,把東蔡司公司裡的技術骨幹挖到國內。

可現在距離柏林牆倒塌還有三年,這個時候怕是沒人願意跟他走。

第三個大系統就光源問題,必須找到光源系統生產商。

那肯定是找今年剛組建的“西盟公司(Cyr)”。

說起光源,還要說一下。

現在主要是高壓汞燈產出的紫外光,也就是UV。

紫外光中能量最高的兩個光譜線就是G線和I線。

徐瑞團隊研究的就是G線。

現在的晶元製程開始向0.5微米以下擴充套件,紫外光明顯不夠用。

於是IB科研人員就提出了波長更短的深紫外光,也就是DUV。

其實這是一種準分子雷射,無熱效應。方向性強。波長純度高等優點,直接跳過了UV光的I線光譜。

而西蒙公司成立,就是想在這個領域淘金。

可他們低估了研究準分子雷射的難度,直到九十年代中期,才研製成功。

這期間兩名創始人抵押了房子,欠了加州大學實驗室五十萬的債務。

在88年迎來兩個冤大頭投資人。

那就是佳能和尼康。

他們跟西盟想法一樣,直接跳過I線光源,進行準分子光刻研發。

但他們為這個決定付出了慘痛代價。

錢沒了,等待的光源系統也未成功,賴以生存的市場已經丟了。

原因就是阿麥斯推行穩妥路線,使用I線光源製造出了新款光刻機,PAS5500,透過彎積電開啟市場。

並由此形成主導產品,被市場所接納。

蘇童重生福利帶來清晰記憶,他在考慮要不要現在就入股西盟公司。

最後決定是“要”,宜早不宜遲。

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