控制檯螢幕上，代表光源功率的數字開始緩慢爬升，每一個數值的跳動，控制室內的呼吸聲就跟著沉重一分。
137瓦。168瓦。214瓦……
當數字穩穩停在220瓦時，林南立即看向一旁的光源穩定性監測曲線。
那條代表等離子體約束狀態的綠色線條，始終保持著平穩的波動，沒有出現任何異常的尖峰或驟降。
系統執行穩定！
「功率穩定在220瓦！等離子體約束狀態良好，沒有出現能量洩漏！」
林南的聲音比剛才響亮了幾分，緊繃的肩膀也稍稍放鬆了一些，臉上綻放出一抹旁人看不見的燦爛笑容。
作為國產第一臺EUV光刻機的核心研發人員，那是妥妥能登上教科書。評院士。留名青史的人。
他連忙深吸了一口氣，強行控制住自己的情緒。
陳延森微微頷首，轉頭看向章延傑：「光學系統同步適配，檢查光束勻化效果。」
章延傑立馬調出照明光學模組的即時資料，螢幕上彈出一組光束截面分佈圖。
淡紫色的光斑均勻地覆蓋在模擬掩模區域，邊緣沒有出現絲毫能量衰減的陰影。
「陳老師，光束勻化度99。2%，符合220瓦功率下的光學適配要求，成像光學系統已完成自動對焦校準！」
章延傑揚聲回應道。
這一次，控制室內的騷動比方才更加明顯。
有人悄悄抹了把眼角，還有人用拳頭輕輕捶了下桌面。
從107瓦到220瓦，不僅僅是數字的提升，更是證明他們的DE-EUV光源既能「點亮」，也能在更高功率下保持穩定，這意味著量產的可能性又近了一步。
功率是制約工藝節點的重要因素！
製程微縮需實現更小的線寬和間距，要求EUV光具備更高的光學對比度，而功率是對比度的核心支撐。
220瓦的穩定功率，足以滿足7納米制程的晶片生產所需。
陳延森嗯了一聲，接著吩咐道：「準備晶圓臺與掩模臺同步測試，載入測試晶圓，按28納米制程引數設定曝光程式。」
汪象朝馬上響應：「測試晶圓已透過機械臂送入預對準工位，掩模臺已載入28奈米標準電路掩模版，同步精度校準中。」
頃刻間，眾人的視線重新聚焦在主監控屏上。
螢幕被分成了四個畫面：左上角是光源功率與等離子體狀態，右上角是光學系統的光束分佈，左下角是晶圓臺的即時座標，右下角則是掩模臺的運動軌跡。
隨著汪象朝按下按鈕，兩個精密平臺迅速移動，它們的運動軌跡像兩條精準咬合的齒輪，每一次微調都控制在0。1奈米以內。
「同步精度0。08奈米！已達預設標準！」
汪象朝說道。
陳延森看了一眼時間，此刻是晚上8點37分，距離真空泵啟動已經過去了半個多小時。
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