這一次的研發，不再是從零摸索的艱難試製，而是站在成熟量產體系之上的精準迭代。
李承道聽聞二人規劃，第一時間送來助力，將高階靈晶、穩壓靈陣圖紙、精密煉器心法等，盡數送至實驗室。
修仙陣法與工業科技再度深度交融，成為突破製程瓶頸的關鍵鑰匙。
初代光刻機，是“機械為主、靈能輔助”；
而二代光刻機，將徹底革新架構，實現靈能鎖精度、陣法穩光路、機械固結構的全新體系。
二代光刻機的研發攻堅正式拉開帷幕。
劉科學主攻光路重構與機械結構升級，拆解初代裝置所有缺陷，重新設計光路折射組、對焦微調軸、閉環控制系統。
他結合修仙煉器的精密塑形手法，將所有機械咬合結構打磨至零間隙，消除微米級震動誤差，讓裝置運轉極致平穩。
林金蓮則深耕靈能核心與陣法佈局，以元嬰級靈力感知入微調控，將九層穩壓鎖靈陣，嵌入光刻機機身。
層層靈陣交錯疊加，如同細密無形的結界，徹底鎖死裝置內部靈力波動、溫度偏差、氣流擾動，將所有影響光刻精度的外界變數盡數歸零。
不僅如此，她依託大虎煉化高純矽料的分子結構資料，最佳化刻蝕演算法，重新排布最優電路佈線邏輯，為更高整合度的晶片鋪路。
大虎時刻待命供給頂級矽基材。
它元嬰中層的本源煉化之力穩定至極，可以按需煉化出分子級極致純淨矽片。
晶格結構完美無瑕，足以承受二代裝置的超精細刻蝕，不會出現任何崩邊、斷線、晶格破損問題。
研發的十餘日里，實驗室燈火通宵不滅。
劉科學和林金蓮，二人日夜配合，反覆除錯光路焦距、靈能輸出頻率、刻蝕速率、對位精度。
每一次除錯，都有海量資料重新整理；每一次最佳化，都將製程精度向上推進一步。
從一點二微米，到零點八微米，再到零點五微米……
精度節節突破，不斷重新整理此方世界的光刻極限。
期間不乏數次失敗。
某次光路過載，靈能波動紊亂，剛刻繪一半的矽片電路盡數崩碎。
某次機械微移校準偏差，導致整片晶圓紋路偏移報廢。
但海量的量產資料積累，讓他們早已擁有從容試錯的底氣。
報廢、覆盤、修正、重來。
每一次失誤，都讓二代裝置的架構更完善、演算法更精準。
終於，在半個月後的深夜，實驗室所有儀器同時趨於穩定。
嗡——
一道溫潤沉穩的低鳴響起，全新改造組裝完成的二代高精度靈能光刻機，靜靜佇立在實驗室裡。
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