“你為什麼要招攬他？”
邱淑偵一臉的好奇。
“林苯堅是一個十分厲害的高科技人才！”
“他是我們華夏寶島人！”
“他在1963年，獲得了寶島大學電機工程學系學士！”
“1970年，他獲得了鷹國俄亥俄州立大學電機工程學系博士！”
“博士畢業以後，他進入了IB司工作！”
“從普通的研究員幹起，一直幹到現在的研發經理！”
“自從他當上研發經理以後，他帶著研發團隊發明出許多世界第一的專利！”
陳浩將林苯堅的基本情況說了出來。
如果沒有他的出現，林苯堅將會在2000年，加入寶島的寶積電，成為寶積電的技術骨幹，是寶積電‘研發六騎士’之一！
林苯堅最大的貢獻就是發明了‘浸潤式微影技術’，成為‘浸潤光刻機之父’！
其實，光刻機巨頭AS之所以能夠發展起來，成為世界上首屈一指的光刻機巨頭，最主要的原因恐怕就是林苯堅發明的‘浸潤式微影技術’！
依照摩爾定律，每經過18至24個月的時間，在成本保持不變的情況下，晶片上的電晶體數量便會翻倍，效能亦會實現飛躍式的提升。
然而，這一規律在20世紀90年代卻遇到了前所未有的挑戰。
當時，儘管櫻花國和鷹國的光刻機企業眾多，但它們卻共同陷入了一片困境。
原因就在於光刻機的光源波長始終無法突破193n瓶頸，無法再進一步縮短。
在半導體制造的領域裡，光源波長的縮短直接關聯著晶片製程的先進性。
櫻花國的呢康公司主張採用157奈米F2雷射技術，而由鷹國主導的EUV聯盟則力推使用極紫外光技術，其光源波長僅十幾奈米。
然而，當時的技術瓶頸使得這兩種先進方案都難以實現。
因此，全球半導體行業在這一時期彷彿陷入了停滯不前的狀態。
就在這個關鍵時刻，林苯堅走進了人們的視線。
在寶積電工作的他，腦海中靈光乍現，提出了一個顛覆性的解決方案。
林苯堅建議，在鏡頭與矽片之間引入一層水，讓光線經過水的折射，將波長降至132奈米。
如此，投射到矽片的圖案解析度將更為清晰，晶片的密度也可更上一層樓。
他透過不懈努力和反覆實驗，證明了這個方案的可行性。
於是，滿懷信心的林苯堅帶著這個方案走向了櫻花國和鷹國知名半導體公司的洽談桌。
然而，對於林苯堅提出的顛覆性方案，櫻花國和鷹國的光刻機巨頭企業卻持謹慎態度。
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