臨時操作員們有條不紊幹著自己手中的活，計算機執行的聲音混著扳鍵開關聲和紙帶打孔聲成為了獨特的背景聲。
當時他們以為這種背景聲會伴隨他們很久，但沒想到沒過多久那聲音就成了他們的回憶。
一天之後，謝亞楠的第二根單晶矽棒拉制成功。
而陳望這邊的晶片設計也已經全部完成，於是便和陶斯言團隊開始進行光刻。
因為趕時間，所以陳望決定把制定好的計劃的先後順序換一下。
他之前本來計劃先在接觸式光刻機的基礎上研製出接近式光刻機，然後再光刻晶片。
雖然王書勳教授都已經在幫忙研究光刻膠、掩膜版和配套的化學品。
但這樣時間上還是拖得太久了，因為還有光學與曝光系統的技術難關需要他去攻克。
而工廠這邊不僅工人們已經開始等著，連制矽的各種原材料也都堆放到了倉庫，就等著伺服電機的晶片了。
所以陳望只能先把晶片製造出來，讓工廠先開工。
首都那邊送過來的是接觸式光刻機，這已經是目前國內最先進的光刻機。
理論上它可以製造特徵尺寸為3微米的晶片，但實際各種限制之下，它最多能製造特徵尺寸為5微米～10微米的晶片。
但陳望設計的這款晶片特徵尺寸恰好是3微米。
因為他把控制和驅動都設計在了一塊晶片上，所以只能選擇極限的3微米。
這也是他最開始把改進光刻機的計劃排在製造晶片前面的原因，因為接近式光刻機正常製造晶片的特徵尺寸就是3～5微米。
其實當時在設計的時候實習研究員們都覺得這樣太過於冒險，因為他們不知道陳望有改進光刻機的計劃。
但陳望堅持設計成3微米的時候大家也都跟著幹了，由此可見對他多麼的信任。
小才：“好了，現在到了你不辜負他們信任的時候了。”
陳望也很無語，真是計劃趕不上變化，現在他就真的要挑戰極限了。
陶斯言在得知陳望設計的晶片特徵尺寸才竟然是3微米時也皺了皺眉頭
畢竟他們能製造出的最小特徵尺寸的晶片是5微米。
3微米，對於接觸式光刻機來說實在太難了。
陳望見狀趕緊給陶斯言和他的研究團隊灌了一碗雞湯，“沒事的陶教授，只要每一個環節都做到極致，那肯定就能無限逼近理論。”
不知道是不是雞湯起了作用，還是已經到了這一步陶斯言放棄了抵抗，反正最後的結果就是大家挽起袖子都跟著陳望幹了。
陳望和陶斯言是下午三點左右帶領團隊進的光刻實驗室。
這期間最緊張的莫過於謝亞楠和一眾實習研究員們。
不過第二天中午他們就收到了好訊息。
在陳望的帶領和陶教授與其研究團隊的努力之下，他們成功的用接觸式光刻機制造出了特徵尺寸為3微米的伺服電機晶片！
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