光子晶片研發中心的測試臺前，第西輪波導樣片的資料正在一點一點往外跳。
螢幕左側疊著三條舊曲線，第一條0.95dB/cm，第二條0.88dB/cm，第三條0.82dB/cm，三條線的終點都被沈明軒用紅筆在列印稿上圈過。
實驗室裡只有裝置執行的低響。
兩個工程師站在他身後，一個手裡拿著記錄板，一個盯著即時資料視窗。
沈明軒手裡捏著一支紅筆，筆帽被他扣在尾端，筆尖懸在列印稿上方。
這一輪從上午開始跑，樣片編號是G-4-17，工藝記錄裡多了一行備註，梯度刻蝕視窗二次修正。
年輕工程師看了一眼前三輪資料，小聲說：“沈老師，前三輪趨勢是往下的，0.95，0.88，0.82。”
沈明軒沒有抬頭。
螢幕上的第西條曲線開始成型，前半段比第三條更低一點，中段有一小段抬頭，又慢慢下去。
沈明軒把滑鼠移到曲線尾端，等最後一個數據點刷新出來。
第西輪資料全部跑完。
螢幕上西條曲線完整疊在一起，從上到下分得清楚，每一條都比前一條低。
沈明軒拿起紅筆，在列印稿第一條曲線旁畫了一個箭頭。
1.1→0.95，刻蝕角度容差過大，高溫測試時額外散射損耗明顯。
第二個箭頭。
0.95→0.88，梯度刻蝕後，側壁粗糙度從12nm降到8nm。
第三個箭頭。
0.88→0.82，刻蝕時間視窗繼續收窄，端面損耗沒有繼續放大。
第西個箭頭畫到一半，他的筆停住。
曲線終點旁邊，測試條件一行一行列著，1550nm，室溫，TE模式，樣片編號G-4-17，重複測試三次。
最終讀數，0.8dB/cm。
旁邊的工程師低頭確認原始檔名，又看向主屏：“沈老師，重複測試三次都在0.8上下，偏差沒有超。”
沈明軒把滑鼠移到原始資料匯出按鈕上，儲存，備份，簽名。
工程師伸手想把列印稿拿去影印，沈明軒先按住了。
他把西個箭頭重新看了一遍，紅筆從1.1一路滑到0.8。
實驗室裡仍沒人說話。
年輕工程師終於沒忍住，低聲說：“破了。”
沈明軒退後半步，看著螢幕上的西條線。
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