全員換上無塵工作服，經過三道安檢進入偌大的實驗室。
見到一臺龐然大物，市委書記、市長、副市長等市領導同時愣住，安若素也是睫毛一顫。
安若素平時很少來鵬城大學，只有週末過來找老公，並未見過光刻機成品，此時指著大型裝置激動道：“老公…這…這就是你研發的光刻機嗎？”
“對。”
蘇雲杉向市領導介紹：“各位領導，這就是由皇甫集團和鵬城大學聯合研製的High NA EUV光刻機，機身尺寸10米x5米x4米，整機重量約150噸，按照設計要求，可以量產1nm及以上製程晶片，實驗室可試產0.5nm晶片。”
譁——
全場領導大驚！
看著光刻機怔怔出神。
皇甫君昨晚來過，見過總裝整機，此時再見，依然覺得震撼，光刻機通體啞光銀灰，輪廓方正厚重，如同集裝箱穩穩地紮在環氧地坪上。
蘇雲杉走近介紹：“這臺裝置是國內首臺數值孔徑0.55的High NA極紫外光刻機，相較於國外傳統0.33NA EUV光刻機，可大幅提升解析度，列印8nm密集線條，突破晶片製造密度記錄，這也是它能夠突破1nm製程壁壘的核心關鍵。”
皇甫君母女三人、市領導、校領導跟在他身後，近距離觀摩，更能首觀地感受到它的精密和磅礴。
蘇雲杉摸著冰涼的機身繼續介紹——
“整機採用一體化真空密封艙體設計，外殼是特製航空級碳化矽材質，抗形變、耐高溫、耐腐蝕，表面啞光塗層經過百級無塵拋光處理，不沾微塵、極致平整，杜絕任何細微光線散射干擾。”
“裝置搭載自研13.5nm波長高能脈衝等離子光源，最大功率突破350W，光源穩定性和光斑均勻性，均達到國際領先標準，徹底解決了傳統EUV光源功耗高、續航短、光斑偏差的缺陷。”
蘇雲杉抬手指著裝置核心光學區域，繼續細緻講解。
“核心反射鏡組為七層超高精度鍍膜鏡片，經過原子級拋光工藝處理，面形精度誤差控制在0.05λ以內，表面粗糙度不足0.1奈米，相當於單個原子首徑級別，可實現極致精準的光線反射和聚焦。”
啥啥啥……
說得是個啥……
安若素和安無恙姐妹倆聽得一頭霧水，但不明覺厲。
市委書記和市長此前做過國產光刻機的調研和考察工作，大概能聽懂，來之前也做過功課，聽到蘇雲杉報出的一組組引數，除了震驚還是震驚。
蘇雲杉接著報出一組極具含金量的核心引數。
“裝置套刻精度控制在1.2奈米以內，單次曝光解析度可達8奈米，配合多重曝光工藝，量產端可穩定實現1nm製程晶片規模化投產。
實驗室極限工藝下，可完成0.5nm製程晶片的試產、迭代和良率測試。
同時，整機晶圓吞吐量可達每小時120片，單臺裝置年產能能夠支撐數十萬片先進製程晶圓產出，完全滿足車載智控晶片、高階手機、AI算力晶片的量產需求。”
哇——
市領導和校領導又是一驚！
“整臺裝置核心國產化率達到100%，從真空腔體、精密運動工件臺、雙工件臺換片系統，到光源模組、光學鏡頭、精密校準控制系統，全部實現自主設計、自主製造，徹底擺脫海外核心零部件的技術壟斷。”
蘇雲杉最後總結道：“總之一句話，我可以負責任地告訴各位領導，這是當今世界上最先進的光刻機。”
——吶天
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