眾人凝神屏息，面露緊張之色。
蘇雲杉平靜地釋出指令：“開始上機前自檢，執行S1全鏈路校驗。”
唰——
終端介面瞬間重新整理海量資料流，整機光源系統、七組超高精度反射鏡組、雙工件臺、精密對焦系統、光路校準模組同步啟動自檢。
螢幕上，光路偏差、鏡面面形誤差、工件臺定位引數、真空潔淨度、雷射光斑均勻性等上百項核心指標，逐條跳轉為綠色合格狀態。
蘇雲杉繼續下達指令：“載入1nm標準SRAM光刻版圖，啟動光源預激發，功率拉至320W穩態。”
嗡——
裝置內部傳出一陣極其低沉、穩定、細膩的機械共振聲，沒有劇烈震動，沒有刺眼光亮，極致精密的工業裝置，運轉起來只有近乎細微的低頻嗡鳴。
咚咚…咚咚…咚咚……
皇甫君心跳加速，緊盯腔體內部。
只見13.5nm極紫外高能等離子光源瞬間起弧，經過多層高精度光學鏡組，多次反射、收斂、勻化，一束極窄的EUV光束，沿著超長真空光路貫穿整機，精準投射至晶圓表面。
嘖嘖嘖……
安若素心中暗歎：好科幻的樣子…這玩意兒是我老公造出來的？他怕不是個外星人吧……
“雙工件臺切換，載入12英寸裸晶圓，執行對位校準。”蘇雲杉慢條斯理道。
機械結構在真空腔體內無聲滑移，國產高精度雙工件臺以奈米級精度平穩位移，定位誤差嚴格控制在±0.3nm，晶圓邊緣標記點與機臺對位基準瞬間完成毫秒級貼合，套刻預偏差歸零。
外行看熱鬧，內行看門道。
半導體制造研究院院長、光刻機研發中心主任以及教授等團隊成員，神色越發震驚。
他們的目光死死鎖定主控螢幕，無人敢出聲打擾半分。
懂行的人都清楚，這一步對位校準，是1nm製程光刻最核心、最考驗技術的關鍵環節，分毫偏差都會導致整片晶圓報廢。
蘇雲杉緊盯即時成像資料，沉聲確認：“對位合格，啟動單次曝光，劑量240mJ/cm2，聚焦閾值鎖定0.8nm。”
下一秒，EUV光束精準擊穿光刻膠表層，在晶圓基底上完成極致精微的電路圖形復刻。
整個曝光過程無聲無息，無任何肉眼可見光影，卻在微觀尺度完成了千億級電晶體電路的精準刻畫。
單次曝光結束，機臺自動完成移片、對焦、二次校準，開啟多重曝光疊加工藝，完美適配1nm製程的圖形拼接需求。
三分鐘後，首批測試晶圓曝光工序全部完成，裝置自動解除安裝晶圓，送入後端線上檢測工位。
缺陷檢測機和線寬量測機瞬間啟動掃描，海量微觀成像資料快速重新整理在大屏之上。
當最終檢測結果跳出的那一刻，團隊成員呼吸同時停滯。
大螢幕上清晰顯示——
實測線寬：1.02nm
mn81.1：度刻套
mn54.0≤：度糙緣邊
0：數陷缺觀微
！！！轟
！！！了炸間瞬隊團
”！！準標程製mn1用商際國越超至甚到達部全數引心核有所！吶神“
”！！！了功然竟機刻VUE AN hgiH產國的發研總蘇“
”！！？吧夢做在是不我！下一我掐能誰！！吧了議思可不太！GMO“
……是不
？了功
。辨分法無都功否是連，說來人的懂不於對，眼一視相漢外門位兩恙無安和素若安
