八月三號，鵬城，實驗樓三層。
錢院士帶了十二個人，關在機房裡，三天沒出來。
手冊拆開之後，問題比想象的多。蔡司的鍍膜工藝用的是磁控濺射加離子束輔助沉積，兩套系統配合，精度要求到了亞奈米級別。
錢院士的助手小周拿著打印出來的引數表，站在裝置前，對了半天。
“錢老，咱們這臺濺射裝置，靶材轉速最高到三千轉，手冊上要求四千五。”
錢院士走過來，看了一眼引數。
“膜厚控制呢？”
小周翻到第三頁：“手冊要求單層膜厚度誤差不超過零點零二奈米。咱們這臺裝置最好做到零點零八，差四倍。”
錢院士把引數表放下，摘了老花鏡。
裝置不夠——這是硬傷。
他打給張紅旗。
“紅旗，裝置精度不夠。手冊裡的工藝，咱們現有的機器跑不了。”
張紅旗在煤市街：“差多少？”
“核心指標差三到四倍。要麼換裝置，要麼改裝置。換裝置國內買不到，國外買走審批，最快半年。”
張紅旗說：“改。”
“改裝置風險很大，改壞了連現在的精度都保不住。”
張紅旗說：“錢老，您先穩住。材料那邊我來解決。裝置改造的方案您先出，我這邊配合。”
掛了。
八月四號，東京，住友化學株式會社。
住友的半導體材料部門收到了一份內部通報：AS和一家開曼信託公司達成了專利交叉授權協議，鍍膜技術引數外流。
住友的材料部部長田中看完通報，叫來下屬。
“查一下，之前跟我們採購高純度鉬靶材的那個中國團隊，是不是鵬城那邊的？”
下屬查了記錄：“是。去年十一月下過一批訂單，後來因為出口管制審批卡住了，一直沒發貨。”
田中點頭：“現在AS把技術給出去了，說明這個團隊有背景。重新聯絡他們。”
下屬問：“價格呢？”
田中說：“漲百分之五十。”
下屬沒多問，發了郵件。
八月五號，鵬城，錢院士收到住友的郵件。
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