“ArF浸沒式DUV，波長一百九十三奈米。單次曝光解析度極限是三十八奈米。
七奈米怎麼做？
四重曝光。
一層圖形拆成四次來印。”
“麻煩嗎？”
他自問自答，“確實麻煩，光刻步驟比EUV多三倍，套刻精度要求正負一點七奈米。
但上海微電子最新的SSA800-10可以做到。”
“成本呢？”
秦風終於放下水杯，問了個商人該問的問題。
許哲咧嘴笑了一下——難得，這間屋子裡終於有人問他懂的東西了。
“一臺EUV光刻機，AS報價二十億人民幣起，交期三年，想買還不一定賣你。
一臺SSA800，報價一點二億，交期四個月，管夠。
四重曝光損失的產能用機臺數量補回來，綜合成本只有EUV方案的三分之一。”
“而且——”他豎起食指，“不受任何國家的出口管制。”
會議室裡安靜了兩秒。
這句話的分量不需要任何人解釋。
最後一個人始終沒站起來，坐在角落裡翻著平板。
周政看了他一眼：“老呂，到你了。”
呂遠山，封測與可靠性負責人。
華天科技過來的老工程師，五十多歲，頭髮全白，手上有繭子。
他把平板往桌上一放，螢幕朝上，上面是一張效能對標表。
“別的我不多說。直接跟臺積電N2對比。”
他聲音不大，但在場所有人都豎起了耳朵。
“電晶體密度，我們兩點一億每平方毫米，臺積電N2是一點八三億。
高百分之十四點七。夠到矽基一點八奈米節點的水平。”
“開關速度，門延時零點零八皮秒，N2的三點二倍。
同架構峰值頻率提升百分之兩百二十。”
秦風的嘴張開了。
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